Hochrate-Abscheidung von piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschichten mittels reaktiven Magnetron-Sputterns
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Beschreibung
Der vorliegende Band der „Dresdener Beiträge zur Sensorik“ untersucht das reaktive Magnetron-Sputtern zur Abscheidung piezoelektrischer Dünnschichten auf der Basis von Aluminiumnitrid (AlN). Solche piezoelektrischen Dünnschichten lassen sich vorteilhaft für Sensoren und Aktoren verwenden. Der Abscheideprozess ermöglicht die homogene Herstellung auf einer großen Fläche von bis zu 200 mm Durchmesser bei gleichzeitig hoher Abscheiderate und Homogenität. Die Kenntnis der Haupteinflussgrößen des Prozesses auf die Schichteigenschaften ermöglicht die wirtschaftliche Abscheidung von AlN-Schichten mit Dicken von bis zu mehreren 10 Mikrometern. Durch die Dotierung der Schichten mit Scandium lassen sich die piezoelektrischen Eigenschaften weiter verbessern, so dass sich völlig neue Anwendungsgebiete eröffnen.
Autor*in
Stephan Barth
Themen in »Hochrate-Abscheidung von piezoelektrischen Aluminiumnitrid-Dünnschichten mittels reaktiven Magnetron-Sputterns«
Hochrate-Abscheidung Sensorik piezoelektrische Materialien reaktives Magnetron-Sputtern