Anwendung von Streulichttechniken zur In-situ-Analyse des Partikelbildungsprozesses im überkritischen Antisolvent-Verfahren

Beschreibung

Das überkritische Antisolvent-Verfahren zur Herstellung feinster Partikel mit enger Korngrößenverteilung ermöglicht durch eine einfache Variation der Prozessparameter die Herstellung verschiedenster Partikelgrößen und Morphologien. In der vorliegenden Arbeit werden zwei verschiedene Modellsysteme untersucht. Zum einen ein metallorganisches ternäres System bestehend aus dem Halbleitervorprodukt Yttriumacetat, dem Lösungsmittel Dimethylsulfoxid und dem Antisolvent Kohlendioxid (CO2) und zum anderen ein organisches ternäres System, bestehend aus dem pharmazeutischen Wertstoff Paracetamol, dem Lösungsmittel Ethanol und dem Antisolvent CO2. Während für die Partikelabscheidung bereits ein rudimentärer empirischer Modellansatz besteht, fehlt dieser für das pharmazeutische System gänzlich. Ein bereits bestehendes Modell des metallorganischen Systems wird mittels optischer In-situ-Messtechniken verifiziert und erweitert. Die thermo-physikalischen Vorgänge werden systematisch über eine Variation von Druck, Temperatur und Lösungskonzentration untersucht. Verwendet werden bildgebende In-situ-Simultanstreulichtmesstechnik und eine Hochgeschwindigkeits-Mikroskop-Streulichtmesstechnik.
Das überkritische Antisolvent-Verfahren zur Herstellung feinster Partikel mit enger Korngrößenverteilung ermöglicht durch eine einfache Variation der Prozessparameter die Herstellung verschiedenster Partikelgrößen und Morphologien. In der vorliegenden Arbeit werden zwei verschiedene Modellsysteme untersucht. Zum einen ein metallorganisches ternäres System bestehend aus dem Halbleitervorprodukt Yttriumacetat, dem Lösungsmittel Dimethylsulfoxid und dem Antisolvent Kohlendioxid (CO2) und zum anderen ein organisches ternäres System, bestehend aus dem pharmazeutischen Wertstoff Paracetamol, dem Lösungsmittel Ethanol und dem Antisolvent CO2. Während für die Partikelabscheidung bereits ein rudimentärer empirischer Modellansatz besteht, fehlt dieser für das pharmazeutische System gänzlich. Ein bereits bestehendes Modell des metallorganischen Systems wird mittels optischer In-situ-Messtechniken verifiziert und erweitert. Die thermo-physikalischen Vorgänge werden systematisch über eine Variation von Druck, Temperatur und Lösungskonzentration untersucht. Verwendet werden bildgebende In-situ-Simultanstreulichtmesstechnik und eine Hochgeschwindigkeits-Mikroskop-Streulichtmesstechnik.

Autor*in

Stefan Dowy

Themen in »Anwendung von Streulichttechniken zur In-situ-Analyse des Partikelbildungsprozesses im überkritischen Antisolvent-Verfahren«

Feinste Partikelmenge Korngrößenverteilung Optische Messverfahren Partikelbildung Streulichtverfahren Überkritisches Antisolvent-Verfahren

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