Jörn Ch Weber Weber Reaktive Abscheidung von SiOxNy-Schichten durch Puls-Magnetron-Sputtern

Reaktive Abscheidung von SiOxNy-Schichten durch Puls-Magnetron-Sputtern

von Jörn Ch Weber

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Beschreibung

Autor*in

Jörn Ch Weber

Stimmen zu »Reaktive Abscheidung von SiOxNy-Schichten durch Puls-Magnetron-Sputtern«

Details

ISBN: 9783868534528
Verlag: Dr. Hut
Erscheinung: 12.05.2010

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