Fabrication and analysis of co-diffused n-type silicon solar cells applying plasma-deposited diffusion sources
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Beschreibung
Die Herstellung von n-Typ Silizium-Solarzellen lässt sich durch die Anwendung einer multifunktionalen Plasma-abgeschiedenen Bor-Dotierquelle und eines Ko-Diffusionsprozesses deutlich vereinfachen. Dadurch können Hochtemperatur-Diffusionen sowie Beschichtungs- und Ätz-Schritte eingespart und Solarzellen kosten- und zeiteffzienter hergestellt werden. In der vorliegenden Arbeit optimieren wir die Plasma Gasphasenabscheidung (PECVD) von Bor-Silikatglas (BSG), das als einseitige Dotierquelle dient, und entwickeln eine zweistufige POCl3-Ko-Diffusion. Wir stellen ein neues n-Typ Cz-Si Zellkonzept mit der Bezeichnung Bifacial Co-diffused Rear Emitter (BiCoRE) vor. Die ersten BiCoRE-Zellen erreichen 20.6% Effizienz und 78% Bifacialität.
Autor*in
Nadine Wehmeier
Themen in »Fabrication and analysis of co-diffused n-type silicon solar cells applying plasma-deposited diffusion sources«
co-diffused n-type silicon solar cells plasma diffusion sources