Replikation von Mikro- und Nanostrukturen für optische Anwendungen

Beschreibung

UV-Nanoimprint Lithographie (UV-NIL) ist eine auf Replikation beruhende alternative Technologie zur Elektronenstrahl- und Optischen-Lithographie, um Nanostrukturen zu erzeugen. In dieser Arbeit wird das Verfahren dargestellt, Schlüsselemente untersucht und die Anwendbarkeit für drei Applikationsfelder aus dem Bereich der Optik (Silizium-Photonik, Solarzellen & plasmonische Sensorik) aufgezeigt.

Autor*in

Ulrich Plachetka

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