Saskia Kühnhold-Pospischil Kühnhold-Pospischil Oberflächen-Passivierung von kristallinem Silicium durch Aluminiumoxid.

Oberflächen-Passivierung von kristallinem Silicium durch Aluminiumoxid.

von Saskia Kühnhold-Pospischil

EUR 53,00

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Beschreibung

Amorphe Al2O3-Schichten eignen sich hervorragend zur Passivierung kristalliner Si-Oberflächen, was insbesondere in der Photovoltaik zu einem enormen Anstieg der Solarzellen-Effizienz führen kann. In der vorliegenden Arbeit wurden die genauen physikalischen Ursachen der Passiviereigenschaften von Al2O3-Schichten untersucht. Dazu wurden Temperatur-induzierte Aktivierungs- und Degradations-Phänomene von Si/SiO2/Al2O3-Proben analysiert. Unter Anderem wurde so ein Modell zur Beschreibung des Phänomens Blistering erstellt, die Aktivierungsenergie der negativen Grenzflächen-Ladungsträger bestimmt und mit dem Si-db ein Defekt identifiziert, welcher wesentlich zur Rekombination von Minoritätsladungsträgern an der Si/ Al2O3-Grenzfläche beiträgt.

Autor*in

Saskia Kühnhold-Pospischil

Themen in »Oberflächen-Passivierung von kristallinem Silicium durch Aluminiumoxid.«

Fraunhofer ISE condensed matter physics (liquid state & solid state physics) atomic & molecular physics Angewandte Physik Physik der kondensierten Materie Atom- und Molekülphysik Physik Materialwissenschaft Festkörperphysik Photovoltaik Halbleiterphysik Physik Materialwissenschaft Festkörperphysik Photovoltaik

Stimmen zu »Oberflächen-Passivierung von kristallinem Silicium durch Aluminiumoxid.«

Details

ISBN: 9783839612538
Verlag: Fraunhofer Verlag
Erscheinung: 10.04.2018

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