CMOS-Prozessintegration von epitaktischen Selten-Erden-Oxiden als High-K-Dielektrika auf SOI-Substraten

Beschreibung

Autor*in

Heinrich D Gottlob

Themen in »CMOS-Prozessintegration von epitaktischen Selten-Erden-Oxiden als High-K-Dielektrika auf SOI-Substraten«

CMOS Epitaktische Dielektrika High-K Metall-Gate SOI

Stimmen zu »CMOS-Prozessintegration von epitaktischen Selten-Erden-Oxiden als High-K-Dielektrika auf SOI-Substraten«

Details

Link teilen