Josef Stein Stein Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD

Niedertemperatur-Deposition von Siliziumdioxid mittels Remote-PECVD

von Josef Stein

EUR 44,50

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Beschreibung

Autor*in

Josef Stein

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Details

ISBN: 9783826562181

Verlag: Shaker

Erscheinung: 1999

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