Reaktives Magnetronsputtern von transparenten und leitfähigen Oxidschichten.

Beschreibung

Es wird ein neues Verfahren zum reaktiven Sputtern von transparenten und leitfähigen (TCO) Schichtsystemen vorgestellt.

Autor*in

Bernd Szyszka

Themen in »Reaktives Magnetronsputtern von transparenten und leitfähigen Oxidschichten.«

Fraunhofer IST Vakuumbeschichtung Reaktivsputtern Mittelfrequenz-Magnetronsputtern Zinnoxid Zinkoxid TCO-Schichten ITO transparente Schichten leitfähige Schichten Vakuumbeschichtung Reaktivsputtern Mittelfrequenz-Magnetronsputtern TCO-Schichten Zinnoxid

Stimmen zu »Reaktives Magnetronsputtern von transparenten und leitfähigen Oxidschichten.«

Details

Link teilen