The Chemistry of Metal CVD
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Beschreibung
Für dünne, hochreine Metallfilme gibt es eine breite Palette von Anwendungen, zum Beispiel in der Elektronikindustrie, als Katalysatoren, als dekorative und Schutzbeschichtungen und in Gasdurchlässigen Membranen. Dieses Buch bietet eine aktuelle Übersicht über die chemische Abscheidung aus der Gasphase (Chemical Vapor Deposition) von verschiedenen Metallen aus Organometallvorläufern. In neun Kapiteln wird die chemische Abscheidung von Metallen wie Aluminium, Wolfram, Gold, Silber, Platin, Palladium, Nickel, sowie Kupfer aus Kupfer(I)- und Kupfer(II)-Verbindungen eingehend behandelt. Synthese und Eigenschaften der Vorläufer, Wachstumsgeschwindigkeit und Morphologie des abgeschiedenen Metallfilms, seine Haftbarkeit und Qualität sowie Laser- Ionen- und Plasma-assistierte Methoden werden diskutiert. Anwendungen und zukünftige
Anwendungsmöglickeiten werden zusammengefasst. Dieses umfassende Lehrbuch und Nachschlagewerk, das ca. 1000 Literaturzitate sowie ein Glossar enthält, ist für Chemiker, Physiker, Ingenieure und Materialwissenschaftler, die sich mit der Erzeugung und Anwendung von ultradünnen Metallschichten befassen, unentbehrlich.
Autor*in
Toivo T. Kodas
Themen in »The Chemistry of Metal CVD«
Chemie Chemistry Coordination Chemistry Electrical & Electronics Engineering Elektrochemie Elektrotechnik u. Elektronik Festkörperchemie Halbleiter Koordinationschemie Materials Science Materialwissenschaften Metallorganische Verbindungen Oberflächenbehandlung Physical Organic Chemistry Physikalische Organische Chemie