Patent- und Designrecht
Textausgabe zum deutschen, europäischen und internationalen Patent-, Gebrauchsmuster- und Designrecht
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Beschreibung
Inhalt
ArbeitnehmererfindungsG, Biomaterial-HinterlegungsVO, DesignG, Einheitliches PatentgerichtÜbK, Europäisches PatentÜbK, GebrauchsmusterG, G über intern. PatÜbk, Haager Abkommen (Hinterlegung), HalbleiterschutzG, PatentVO, PatentG, PatentkostenG, Pariser Verbandsübereinkunft, SortenschutzG, TRIPS
Neuauflage
Die 18. Auflage enthält die neue EG-MusterschutzRL und berücksichtigt u.a. Änderungen des PatentG, der AusführungsO zum EPÜ, des EPGÜ, der Gem.-GeschmacksmusterVO und der HaagAbkAO
Zielgruppe
Für Behörden, Richterinnen und Richter, Rechtsanwältinnen und Rechtsanwälte sowie Unternehmen.
Autor*in
Andreas Heinemann
Themen in »Patent- und Designrecht«
AusführungsO zum PCT Vertrag über internationale Zusammenarbeit Arbeitnehmererfindungengesetz Gebrauchsmustergesetz Geschmacksmustergesetz PCT-AusführungsO Patentgesetz Europäisches Patentübereinkommen Designrecht Patentrecht Sortenschutz gewerblicher Rechtsschutz Designabkommen PatR Patentgericht